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Nanometric Technology SC300 手動旋轉涂布機，專為半導體光刻研發設計，兼容 φ5 英寸晶圓，支持兩檔速度控制與異形樣品定制探頭。全不銹鋼外殼耐藥品易清潔，搭配全周平均排氣管道，結構緊湊低成本，是實驗室高精度光刻膠涂覆的理想設備。日本納米計量技術 手動旋轉涂布機設備
產品型號：SC300廠商性質：經銷商更新時間：2026-03-28訪 問 量：166
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日本納米計量技術 手動旋轉涂布機設備 日本納米計量技術 手動旋轉涂布機設備
廣泛樣品適配：兼容 φ5 英寸晶圓，同時支持定制化探頭，可靈活應對異形樣品，滿足多樣化涂覆需求。
兩檔速度控制：配備 SPEED1/SPEED2 兩檔轉速調節，搭配 TIME1/TIME2 兩段時間設定，可精準控制光刻膠成膜工藝。
緊湊低成本設計：整機采用緊湊型布局，兼顧高精度與經濟性，適合科研實驗室小批量樣品制備。
耐藥品性與易清潔：全不銹鋼外殼，耐化學品腐蝕，便于清潔維護，適配光刻膠等有機溶劑環境。
高效排氣設計：配備全周平均排氣管道，可均勻排出有機溶劑揮發氣體，保障實驗環境安全。
便捷操作面板：集成轉速計、時間設定、真空吸附控制、啟動 / 停止等功能模塊，操作直觀清晰。
φ5 英寸及以下晶圓的光刻膠均勻涂覆
異形樣品的定制化薄膜制備
半導體器件光刻工藝的基礎研究與小批量試制
新型光刻材料的成膜工藝探索
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