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日本納米計量技術 半導體光刻曝光設備納米計量技術掩模對準機，是半導體光刻核心設備，可利用紫外線將微細圖案轉印燒結到硅、玻璃等基板上。支持接觸 / 接近等曝光方式，配備精密對準機構與觀測光學系統，廣泛用于晶體管、IC、LCD 等器件制造，支持定制化需求。
產品型號：EV-B1 系列廠商性質：經銷商更新時間：2026-03-28訪 問 量：209
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日本納米計量技術 半導體光刻曝光設備 日本納米計量技術 半導體光刻曝光設備
多基板適配：兼容硅、玻璃、陶瓷、砷化鎵、水晶等多種基板，支持晶體管、IC、LCD 玻璃等多樣樣品。
豐富曝光模式：支持接觸曝光、接近曝光、等倍投影曝光等多種方式，適配不同工藝需求。
精密對準系統：搭載高精度對準機構與觀測光學系統，保障圖案轉印精度，滿足半導體器件制造要求。
定制化設計：以核心功能為基礎，可根據客戶需求定制曝光模式、基板尺寸或自動化模塊。
穩定可靠結構：整機采用工業級機架，配備 UV 光源與操作面板，結構穩固耐用，操作便捷高效。
晶體管、IC、二極管等半導體元件的光刻工藝制備
LCD 玻璃、水晶振蕩器的圖案形成
傳感器、MEMS 器件的微納結構制造
新型光刻材料與工藝的基礎研究
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