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日本栗田制作所 等離子體離子注入成膜設備日本栗田制作所 PBII-R450 是小型 DLC 成膜裝置，專為研發與試樣制備設計，采用等離子體離子注入工藝，可在真空環境下高效沉積類金剛石薄膜，支持多氣體控制與脈沖電源配置，適合基礎數據采集與工藝研發場景。
產品型號：PBII-R450廠商性質：經銷商更新時間：2026-04-30訪 問 量：126
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日本栗田制作所 等離子體離子注入成膜設備 日本栗田制作所 等離子體離子注入成膜設備
緊湊高效的研發設計：設備為小型化設計，適合實驗室環境部署，真空槽排氣后可實現 1.33×10?3Pa 以下的真空度，大幅縮短實驗準備時間，提升研發效率。
多氣體與精密控制能力：配備 7 路質量流量控制器，支持 Ar、H?、CH?、N?等多種工藝氣體，搭配自動壓力控制閥，可實現真空環境的精準控制，適配多種成膜工藝需求。
雙電源配置方案：搭載高壓脈沖電源（-20kVp、10Ap，1.5kW）與脈沖 RF 電源（750W/13.56MHz，可升級至 3kW），支持多種等離子體激發模式，滿足不同薄膜沉積工藝的能量需求。
的真空與測量系統：配置渦輪分子泵、機械增壓泵、旋片泵組成的真空機組，搭配電離真空計、皮拉尼真空計等多種真空測量儀器，保障真空環境的穩定與監測。
| 項目 | 參數 |
|---|---|
| 型號 | PBII-R450 |
| 設備類型 | DLC 成膜裝置（R&D 小型機） |
| 電源輸入 | 三相 AC200V±10% 50/60Hz 約 25kVA |
| 真空槽尺寸 | 410mm×410mm×410mm（約 70L，單面門式） |
| 極限真空 | 1.33×10?3Pa 以下（可調整設置） |
| 真空泵組 | 渦輪分子泵 + 機械增壓泵 + 旋片泵 |
| 高壓脈沖電源 | -20kVp，10Ap，1.5kW，重復頻率 500Hz~5000Hz |
| 脈沖 RF 電源 | 750W（13.56MHz），可升級至 1500W/3000W |
| 氣體控制 | 7 路質量流量控制器，支持 Ar、H?、CH?、N?等氣體 |
| 設備尺寸 | 真空裝置：2150×1705×900mm；高壓脈沖電源柜：850×1730×940mm |
類金剛石（DLC）薄膜的工藝研發與試樣制備
機械零件表面耐磨涂層的實驗室沉積
等離子體離子注入相關的基礎研究與數據采集
功能性薄膜材料的小批量制備實驗
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