日本kimmon光刻微刻蝕多波長He-Cd激光器

日本kimmon光刻微刻蝕多波長He-Cd激光器

1. 325nm（紫外）He-Cd 激光器的核心作用

• 科研檢測核心光源：作為紫外波段優質激光源，窄線寬特性使其成為紫外共振拉曼光譜分析、光致發光（PL）測量的理想工具，廣泛應用于材料科學、半導體物理、納米科技等領域，幫助科研人員分析材料結構與光學特性。

• 高精度微加工與光刻：紫外光波長短、聚焦光斑小，可用于微電子、微納器件的高精度光刻、微刻蝕等工藝，保障微小結構的加工精度。

2. 442nm（藍紫）He-Cd 激光器的核心作用

• 工業與科研通用光源：光束質量穩定，適用于全息成像、干涉測量、精密對準等場景，例如在光學元件檢測、精密機械裝配中作為對準基準，或在全息技術中生成高質量全息圖。

• 生物與醫療輔助應用：藍紫波段激光可用于生物樣本熒光激發、細胞成像等領域，為生物醫學研究提供穩定的激發光源。

3. 雙波長（325nm/442nm）He-Cd 激光器的核心作用

• 多場景一體化解決方案：無需更換激光源，即可切換紫外與藍紫波段，適配需要多種波長協同工作的場景，例如同時進行材料的拉曼光譜分析與熒光成像，或在復雜工業檢測中兼顧不同材質的檢測需求，大幅提升實驗與生產效率。

4. 配件的輔助作用

• 功率計：3.7 英寸顯示屏 + 低功耗設計（4 節干電池可用 670 小時），可精準測量激光功率，保障實驗 / 生產過程中功率穩定；

• 冷卻 duct：針對干涉曝光、全息應用等對光束穩定性要求高的場景，既能排出設備熱量，又能減少振動對光束的影響，確保測量與加工精度。