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產(chǎn)品分類產(chǎn)品展示/ Product display





日本full-tech薄膜沉積超小型實驗用CVD裝置 CVD(化學氣相沉積)是一種薄膜制備技術,通過將氣態(tài)前驅物引入加熱的基板表面,使其發(fā)生化學反應并沉積形成固態(tài)薄膜。
產(chǎn)品型號:FT-1200CVD
廠商性質:經(jīng)銷商
更新時間:2026-02-09
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日本full-tech薄膜沉積超小型實驗用CVD裝置
日本full-tech薄膜沉積超小型實驗用CVD裝置
| 參數(shù) | 規(guī)格 |
|---|---|
| 型號 | FT-1200CVD |
| 溫度 | 1,200℃ |
| 常用溫度范圍 | 室溫~1,100℃ |
| 使用爐芯管 | 外徑34mm × 800mm 高純度石英管 |
| 均熱區(qū)長度 | 150mm |
| 溫度設定精度 | ±1℃以內(nèi) |
| 加熱元件 | Kanthal AF(鐵鉻鋁合金,耐高溫抗氧化) |
| 加熱驅動 | 數(shù)字晶閘管(相位角控制) |
| 薄膜類型 | 應用示例 |
|---|---|
| 碳納米管(CNT) | 復合材料增強、導電材料 |
| 石墨烯 | 電子器件、傳感器 |
| 氮化硅(Si?N?) | 半導體鈍化層、耐磨涂層 |
| 氧化硅(SiO?) | 絕緣層、光學涂層 |
| 金屬薄膜(鎢、鈦等) | 集成電路互連、阻擋層 |
| 特點 | 優(yōu)勢 |
|---|---|
| 超小型設計 | 適合實驗室桌面使用,節(jié)省空間 |
| 高純度石英管 | 防止污染,保證薄膜純度 |
| 150mm均熱區(qū) | 確保基板溫度均勻,薄膜質量一致 |
| ±1℃精度 | 精確控制反應溫度,提高工藝重復性 |
| 模塊化選配件 | 根據(jù)實驗需求靈活配置 |
| 用戶類型 | 應用場景 |
|---|---|
| 大學研究室 | 新材料開發(fā)、納米技術研究 |
| 半導體企業(yè)研發(fā) | 工藝驗證、新器件開發(fā) |
| 材料科學研究所 | 薄膜材料性能研究 |
| 初創(chuàng)企業(yè) | 小批量樣品制備、技術驗證 |
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