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日本nanotech-inc實驗室二次元結晶堆疊裝置 核心利用基板溫度調控帶來的有機樹脂粘接力變化，支持滴降堆疊（石墨烯、二硫化鉬、六方晶氮化硼等二維結晶在硅基板上依次堆疊）和拾取堆疊（硅基板上的二維結晶在有機樹脂上依次堆疊）兩種方式，可助力異質結復合原子堆疊材料研發，這類材料能實現超導、發光、磁傳感等特殊特性
2026-03-10
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187
日本Tokai Senkou混合藥液濃度連續測定裝置 采用電磁式密度計，實現溶液的電導率的連續測量。沒有時間差。 測量低濃度NaOH濃度的理想選擇。測量濃度范圍為0-105g/L的NaOH濃度
2026-03-05
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155
日本Tokai Senkou自動藥液濃度連續控制儀 針對工業生產線中混合藥液濃度波動大、需頻繁監測的需求，將傳統間歇式滴定分析升級為連續化、自動化流程，兼具實時監測與自動調控功能，適配多行業的藥液濃度管控場景
2026-03-05
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158
Tokai Senkou連續滴定式藥液濃度控制裝置 該設備專為工業生產線設計，實現藥液濃度的連續監測與自動控制，解決傳統手工滴定效率低、無法實時管控的痛點
2026-03-05
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125
日本sakigake臺式表面處理真空等離子體裝置 可用于各類表面處理，包括薄膜 / 陽極接合 / 涂裝前的預處理，也適用于鍍膜、電鍍、粘接密著提升，同時可拓展至生物醫療領域的培養、牙科醫療及清洗、殺菌、實驗研究等場景。
2026-03-04
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167
日本full-tech薄膜沉積超小型實驗用CVD裝置 CVD（化學氣相沉積）是一種薄膜制備技術，通過將氣態前驅物引入加熱的基板表面，使其發生化學反應并沉積形成固態薄膜。
2026-02-09
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214
Tateyama半導體芯片制造晶圓真空搬運裝置 在外氣·微粒子隔斷的狀態下，從搬運容器（Minimal Shuttle）取出晶圓，并可向真空裝置內搬入/搬出晶圓
2026-02-02
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221
日本tateyama塑料壓電基板等離子刻蝕裝置 除塑料制微流控芯片加工外，還適用于塑料材料、壓電材料、難加工性材料的高深寬比微細加工等各種MEMS器件的試制。
2026-02-02
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199
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