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日本 HORIBA 堀場 蝕刻終點在線監測光譜儀HORIBA EV-140C 為半導體等離子工藝專用 OES 終點監測儀，采用像差校正凹面光柵與背照式 CCD 探測器，波長 200~800nm。搭載自研 Rapture Intensity 算法，可捕捉微弱光譜變化，適配小開口蝕刻工況；配套 Sigma-P 制程軟件，用于干法刻蝕、等離子清洗、薄膜沉積實時終點偵測與腔體健康監控。

日本 HORIBA 半導體等離子工藝監測光譜儀HORIBA EV2.0 是面向半導體制程的高性能 OES 光譜儀，用于干法刻蝕、等離子清洗、PECVD 工藝實時終點檢測與腔室健康診斷。提供 LR/STD/HR 三種分辨率機型，搭載 Sigma_P 配方軟件，支持最多 6 個處理腔室，支持光纖接入腔體，通過 LAN 實現設備通訊集成。

日本somaopt在線監測液體小型拉曼光譜儀 采用 VPH 衍射光柵高效分光系統，配合 –60 °C 電子冷卻二維 CCD，實現高靈敏度檢測。支持電池供電，可連接 HPLC 等流通池，對微量液體樣品進行在線監測；并可通過化學計量學軟件「SpectraChem」實時顯示成分結果。

日本SEKONIC便攜式彩色光譜儀分光比色計 SEKONIC/日本世光 C-800 光譜儀 C-800配備了四種新的量化 感覺的顯色指數：SSI、TLCI、TM-30-18和CRI 。 兼容各種流派的光色評價。這是一款支持數碼攝影的高性能色度計，并配備光譜傳感器， 可以精確測量 LED 和熒光燈等光源，而這些光源是傳統 RGB 濾光片傳感器方法難以使用的。

日本shimadzu激光光譜分析儀多色儀快速測量 SHIMADZU/島津 SPG-V500 波長從 185 nm 到 1095 nm “高波長分辨率”和“瞬時光譜測量” 除了縮短測量激光波長所需的時間外，通過可視化縱模的行為（例如跳模），還可以加快激光光源和激光模塊的開發并降低制造成本。

日本bunkoukeiki棱鏡前光譜儀多色儀高效率 PF-200 具有高效率和低雜散光的前置光譜儀，用于紫外拉曼光譜和 SFG 光譜等測量。 通過使用棱鏡代替濾光片，一臺設備可以使用多個波長。 它的優點是能夠測量濾光片無法處理的紫外線區域，并且能夠以比購買多個濾光片更低的成本構建系統。

日本bunkoukeiki光譜儀高精度測量單色儀 M25 光學裝置采用我們的改良車爾尼-特納安裝座，可最大限度地減少多重衍射造成的雜散光。 由于光學系統的像差很少，因此可以在每個波長上獲得高度對稱的光譜。 由于衍射光柵更換方便且更換重現性好（±0.1mm以內），因此可作為寬帶光譜儀（單色儀）使用。（200nm 至 25μm） 由于可以進行氮氣吹掃，因此也可以在紅外區域使用。

日本bunkoukeiki單色儀高性能高亮度光譜儀 M10 小型、輕量、明亮、高分辨率的單色儀，焦距為 100mm。 ① 過濾器手動切換支架（手動滑動式，最多可安裝6個過濾器） ②入射狹縫千分尺（狹縫顯示，最小刻度10μm，寬度0～4mm可變） ③V型孔徑（最小刻度1mm，入口狹縫高度可在1～20mm范圍內變化） ④波長計數器刻度盤 ⑤光譜儀頂蓋 ⑥ 輸出狹縫千分尺（狹縫顯示，最小刻度